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此外，星逸半导体还加大了应届生招聘工作，通过多方面吸纳半导体人才。
好在FinFET工艺的核心，就是胡老发明的，没有人能比他了解更多。
因此星逸半导体在14纳米的研发速度，比三星和台积电都要快很多很多。
毕竟胡老就是奠基人！
三星的14纳米能如此迅速，很大原因也是梁老师承胡老，也在FinFET工艺做出巨大贡献。
FinFET工艺方面，反而是台积电落了下风。
不过台积电底蕴深厚，兵多将广，综合实力更强，威胁还是最大。
半导体领域的战争，注定难打，王逸能做的也只是加大投入，砸钱研发，砸钱挖人。
当然，产学结合也得全面开启！
念此，王逸喊来简子妍：
