第435章 芯片自研自产！收购中芯国际的晶圆厂？ (第15/23页)
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至于阿斯麦的EUV，目前还不成熟，正式投用还得好几年。
因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。
“那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。
像是DUV光刻机，星逸科技要做，十年都难。
官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的DUV。
后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式DUV 1250i，最初也是造45纳米芯片的。
后续不断对DUV光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世DUV国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
